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面議氧化擴散爐性能特點： ◆具有可編程的升、降溫功能 ◆采用濾波器、屏蔽板等裝置，有效解決電網(wǎng)、磁場的干擾 ◆windows xp全中文視窗操作系統(tǒng)，可儲存1000條曲線，每條曲線設置30步 ..11月04日 -
網(wǎng)帶式快速燒結(jié)爐，是針對太陽能電池生產(chǎn)線開發(fā)的一種集燒結(jié)、烘干于一體的燒結(jié)爐。利用紅外技術和爐膛材料，提高設備的熱效率；采用的溫度控制技術，溫度控制的度。 技術指標： 網(wǎng)帶寬..11月04日
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面議滿足半導體集成電路，電力電子器件，光電子等行業(yè)用于在硅片上淀積Si O2、Si 3N4、Poly-Si、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜工藝。 CVD系統(tǒng)性能特點： 結(jié)構(gòu)形式：1—4..11月04日
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網(wǎng)帶式快速燒結(jié)爐，是針對太陽能電池生產(chǎn)線開發(fā)的一種集燒結(jié)、烘干于一體的燒結(jié)爐。利用紅外技術和爐膛材料，提高設備的熱效率；采用的溫度控制技術，溫度控制的度。 技術指標： 網(wǎng)帶寬度：2..11月04日
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網(wǎng)帶式快速燒結(jié)爐，是針對太陽能電池生產(chǎn)線開發(fā)的一種集燒結(jié)、烘干于一體的燒結(jié)爐。利用紅外技術和爐膛材料，提高設備的熱效率；采用的溫度控制技術，溫度控制的度。 技術指標： 網(wǎng)帶寬..10月31日
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真空燒結(jié)爐主要用于電子器件、可控硅模塊、熱敏電阻、磁性材料、陶瓷金屬化行業(yè)在真空環(huán)境下進行燒結(jié)、封裝、退火、焊接等工藝。 真空爐技術指標：? 真空室工位數(shù)：1-3位 真空度：1Pa..10月31日
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高純材料提純設備主要滿足高純砷等新材料制造行業(yè)，對材料進行氣氛保護下的燒結(jié)、升華、還原、精餾等工藝。 主要性能指標： 外型形式：臥式結(jié)構(gòu)，水平爐管 工作溫度：200℃—1100℃ 恒溫區(qū)..10月31日
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面議擴散爐主要滿足半導體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對所加工的硅 片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。 主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、 控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選..10月31日
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青島福潤德微電子設備有限公司是一家集控制技術、真空技術、熱工技術為一體的高新技術企業(yè)。 目前的主要產(chǎn)品有：太陽能擴散爐、程控高低溫擴散爐、微控高低溫擴散爐、熱氧化擴散爐、低壓 化..10月31日
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面議氫氣還原爐主要用于電力電子器件、熱敏電阻、可控硅模塊、陶瓷金屬化等在氫氣氣氛保護下進行還原、退火、合金等工藝，也可以進行氧化工藝。 技術指標： 工作溫度：200—1300 ℃ 加熱元件：..10月31日
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面議氫氣還原爐主要用于電力電子器件、熱敏電阻、可控硅模塊、陶瓷金屬化等在氫氣氣氛保護下進行還原、退火、合金等工藝，也可以進行氧化工藝。 技術指標： 工作溫度：200—1300 ℃ 加熱元件：..10月31日
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面議滿足半導體集成電路，電力電子器件，光電子等行業(yè)用于在硅片上淀積SiO2、Si 3N4、Poly-Si、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜工藝。 CVD系統(tǒng)性能特點： 結(jié)構(gòu)形式：1—4管..10月29日
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真空爐用于真空條件下集成電路、電力電子器件生產(chǎn)線對所生產(chǎn)產(chǎn)品進行燒結(jié)、合金、退火、焊接等工藝處理。具有控溫精度高，降溫速度快等特點。 真空爐技術指標： 石英管真空室：1—3室 真空..10月29日
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真空燒結(jié)爐主要用于電子器件、可控硅模塊、熱敏電阻、磁性材料、陶瓷金屬化行業(yè)在真空環(huán)境下進行燒結(jié)、封裝、退火、焊接等工藝。 真空爐技術指標：? 真空室工位數(shù)：1-3位 真空度：1Pa，加..10月29日
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面議擴散爐主要滿足半導體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對所加工硅片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。 主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控..10月29日
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太陽能擴散爐主要滿足光伏電池生產(chǎn)線對125mm×125mm、156mm×156mm多晶硅、單晶硅硅片進行擴散工藝。目前有第二代閉管擴散爐和第三代軟著陸擴散爐。? 技術指標： 可處理硅片尺寸：125mm×1..10月29日
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面議氧化擴散爐性能特點： ◆具有可編程的升、降溫功能 ◆采用濾波器、屏蔽板等裝置，有效解決電網(wǎng)、磁場的干擾 ◆windows xp全中文視窗操作系統(tǒng)，可儲存1000條曲線，每條曲線設置30步 ◆自動..10月29日
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鏈式爐主要用于集成電路、電力電子器件，如橋式整流器、二極管、三極管等在氫氣、氮氣、或氫氮混合氣體的保護下進行焊接、封裝、烘干、還原、退火等。 主要技術指標： ◆工作溫度：200℃—1100℃ ..10月29日
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面議擴散爐主要滿足半導體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對所加工的硅 片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、 控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工..10月29日
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面議高純材料提純設備主要滿足高純砷等新材料制造行業(yè)，對材料進行氣氛保護下的燒結(jié)、升華、還原、精餾等工藝。 主要性能指標： 外型形式：臥式結(jié)構(gòu)，水平爐管 工作溫度：200℃—1100℃ 恒溫區(qū)..11月04日
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